Sdílet Sdílet Sdílet

Stress-free deposition of [001] preferentially oriented titanium thin film by Kaufman ion-beam source

THIN SOLID FILMS

GABLECH, I.; CAHA, O.; SVATOŠ, V.; PEKÁREK, J.; NEUŽIL, P.; ŠIKOLA, T., 2017: Stress-free deposition of [001] preferentially oriented titanium thin film by Kaufman ion-beam source. THIN SOLID FILMS 638, p. 57 - 6, doi: 10.1016/j.tsf.2017.07.039; FULL TEXT
(KAUFMAN, RIGAKU9, ICON-SPM)

Vybavení:

• Ion-Beam Sputter Deposition System BESTEC
• X-ray diffractometer with high brightness source Rigaku SmartLab 9kW
• Scanning Probe Microscope Bruker Dimension Icon

Výzkumné skupiny:

• Příprava a charakterizace nanostruktur
• CF: CEITEC Nano

CEITEC autoři:

• prof. Ing. Pavel Neužil, Dr., DSc.
• prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc.
• Mgr. Ondřej Caha, Ph.D.
• Ing. Imrich Gablech, Ph.D.